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GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置

簡要描述:

GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。

型號
更新時間 2020-06-19
訪問次數(shù) 2213
GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置

GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。

GDZT-100-200-40 高低溫循環(huán)裝置性能特點
1、分三個系統(tǒng):制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng),三個系統(tǒng)可連續(xù)使用,也可分別單獨使用。
2、快速加熱和冷卻,可連續(xù)升降溫。
3、溫度控制范圍寬,全程不需更換導熱介質,導熱介質消耗少。
4、全封閉循環(huán)系統(tǒng),高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化,低溫下不易吸入空氣中的水分,可延長導熱流體的使用壽命。
5、高溫冷卻、制冷功能,可以從高溫直接降溫(如可從200℃直接降溫)。
6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器,占用空間小,換熱效率高。
7、液位顯示功能,隨時監(jiān)控液位,避免缺液。
8、高溫切斷、急停、延時、漏電、過電流、過熱等多重保護功能,充分保證使用安全。
9、冷凝、預冷方式為風冷,節(jié)約水資源。

高低溫循環(huán)裝置典型應用
1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。
2、攪拌罐的溫度控制。
3、材料測試中的應用。
4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。
6、恒溫控制系統(tǒng)。
7、半導體設備的溫度控制。
8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
9、真空室的溫度控制。

高低溫循環(huán)裝置技術參數(shù)

數(shù)

型號

GDZT-100-200-40

儲液槽容積(L)

30

加熱容積(L)

3

加熱罐尺寸(mm)

¢90×480

油箱尺寸(mm)

450×150×450

使用溫度范圍(℃)

-40-200

環(huán)境溫度(℃)

≤25℃

環(huán)境相對濕度(℃)

≤60

空載zui低溫度

-40℃

電源

380V±10% 50HZ

加熱功率(W)

12000

制冷量(KW)

200℃

3

10℃

18

-10℃

12

-20℃

7.3

-30℃

4.0

-40℃

1.7

儀表控溫范圍

-100℃-400℃

導熱介質溫控精度(℃)

±0.5

反應物料溫控精度(℃)

±1

傳感器

PT100

介 質 粘 度

500C.S.T

循環(huán)泵功率(w)

280

揚程(m)

10

流量(L/min)

35

壓力(Mpa)

4

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